光學(xué)特性：

      直拉單晶硅（CZ）在9.1μm有強(qiáng)烈的氧吸收峰，用作透射級(jí)材料時(shí)，主要用于第一個(gè)紅外光學(xué)窗口3-5μm波段。直拉單晶硅元件厚度對(duì)1.2-6.7μm波段的光學(xué)透過(guò)率影響不大，其平均紅外透過(guò)率超過(guò)50%。

      區(qū)熔單晶硅（FZ）由于其含氧量遠(yuǎn)低于直拉單晶硅（CZ），其紅外透過(guò)率曲線比較平直，可以用于第二個(gè)紅外窗口7-14μm波段，此波段元件的厚度成為影響光學(xué)透過(guò)率的關(guān)鍵參數(shù)，厚度<1mm的硅片，平均的光學(xué)透過(guò)率超過(guò)50%。

光學(xué)特性參數(shù)：

          透射光波段：  1.2-15μm

          折射率      ：  3.4223（5μm波段）

          反射損失   ：  51.0%（5μm波段，兩面）

          吸收系數(shù)   ：  1x10^-3cm^-1（3μm波段）

          dN/dT      ：  160x10^-6/℃

          dN/dμ      ：  10.4μm

產(chǎn)品規(guī)格：

          晶體生長(zhǎng)方式分類：直拉單晶硅（CZ）    區(qū)熔單晶硅（FZ）

          晶體的晶向分類   ： 100                      111

          摻雜元素型號(hào)分類： N型                       P型

          純度                  ： >99.999%(5N)

          電阻率               ： 1-100Ω·cm

          形狀                  ： 任意定制

       光學(xué)級(jí)單晶硅不僅對(duì)材料的純度要求很高，對(duì)材料的加工精度也同樣要求嚴(yán)苛。我司基于長(zhǎng)期的加工經(jīng)驗(yàn)和精密的加工設(shè)備、良好的檢測(cè)手段，能夠加工各種形狀、精度要求極高的硅光學(xué)部件，能夠滿足各種嚴(yán)苛的使用要求。